在應(yīng)用鹽霧試驗機開展鹽霧測試前,試件依涂層特性，與清理水平而須做適度清理，不可以應(yīng)用研磨液及具備浸蝕或抑制效果之有機溶劑清理，且清理方式不可損害表層。對于不銹鋼板試件應(yīng)用氰化鈉清理與鈍化處理。試件經(jīng)清理后(根據(jù)發(fā)水溶性實驗)以整潔之布或吸水海綿將水分擦拭，或用無油漬之干躁氣體烘干。

　　注:迫不得已時,應(yīng)用氧化鎂育,此泥狀物乃20g試藥級氧化鎂添加100ml的純凈水中。

 

　　既非另有要求,不然試件創(chuàng)口及因掛鉤而導致的墻面或者材料外露部分,或因鑒別標記所導致涂層陷處,于實驗特應(yīng)覆以適合保護層厚度。如硬蠟(ceresinwax)丁二烯膠布等絕緣物。

 

　　掌紋環(huán)境污染會導致比較嚴重的欠佳實驗結(jié)果,試件于清靜后不可有一切掌紋的環(huán)境污染。

 

　　實驗中鹽霧試驗機實驗房間內(nèi)，試件的部位須合乎以下標準：

 

　　1、試件之關(guān)鍵表層與鉛垂線成15°至30*之歪斜,又自實驗室上邊俯瞰時要與噴霧器之：關(guān)鍵流動性方位平行面。獨特零件具備許多方位的關(guān)鍵表層必須另外檢測時，可用多份試件放置，盡量使每一個關(guān)鍵表面另外接納食鹽水的噴霧器。

 

　　2、試件之排序。應(yīng)以噴霧器隨意地落至所有試片上，不可防凝噴霧器之隨意落下來。

 

　　3，鹽霧試驗機開展鹽霧測試的試件不能相互之間觸碰，也不能觸碰到金屬性電導體或有擴散現(xiàn)象功效之化學物質(zhì),及其別的適用架之外的東西。

 

　　4、鹽溶液勿從一個試件滴流至別的試件上。

 

　　5、試件鑒別號或安裝孔應(yīng)覆于正下方。